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继续使用193纳米的光源,推动芯片制程从45纳米继续上升,最终的极限做到了7纳米工艺。
直到深入5纳米制程范围的时候,193纳米的深紫外光源才彻底走到了尽头。
半导体产业不得不尝试更换波长13.5纳米的极紫外光源。
所以对于大明而言,当然可以尽快用攻关浸润式光刻技术,但是在新光源的研究上也要不断努力。
另外,前世所有用过的已经成功的路,当然是已经确定可行的路。
前世没有采用的道路,也未必是不可行的。
以现在大明的资源,对于后世出现过其他方案,也可以让工部有选择尝试。
说不定能够实现比原有道路更好的效果呢?
比如说“同步辐射光源”设施,本身作为一个其他方面的科研设施,其原理使得其能放出各种波长的光。
包括最为接近X光的“极紫外光”。
实际上,历史上早期的光刻机技术验证,也曾经用过同步辐射光源去做研究和验证。
但是同步辐射光源的性质注定了难以商业化。
大明这边也可以尝试,建设大规模的同步辐射光源,在它的基础和原理上讨论,各种光源和光刻的可行性。
同时它也可以继续作为科研设备持续运转。
<divclass='gad2'> 还有其他的更加具体的细节,比如提升性能的铜导线工艺,提升效率的双件工作台设计等等。
朱靖垣把自己能想到的都依次列举出来,作为自己的不确定的设想。
让工部和半导体司安排人员去做攻关和验证。
在这样的基础上,朱靖垣对工部、半导体司、工匠们提出了更加具体的研发目标。
首先是最重要和最核心的工艺制程和中央处理器。
两年之内完成一微米工艺的普及和量产,同时完成下一代的通用微处理器的开发。
新处理的性能目标是每秒计算次数不低于一千万次。
最好是达到每秒五千万次,也就是接近于386甚至486,或者是第一代PS游戏机的水平。
同时要求,它必须是六十四位微处理器,开发代号也因此直接确定为六十四。
按照朱靖垣的计划,六十四位处理器开发完成之后,将会开始主动向民用市场推广,主动开发更多民用设备。
大明的半导体产业构建方式,与历史上的美利坚完全不同。
美利坚作为一个商业社会,就算是官方主导的项目,通常也是军方出钱出技术,让民间厂商去完成产品开发。
这种模式的优势是非常明显的。
最终产品的类似产品,以及开发过程中产生的技术,能够更快的进入民用市场。
会有很多商人想尽一切办法,把他们的商品推给任何有购买力的人,这非常有利于新产品的迅速推广。
他们的理论利润是没有明显限制的。
在很多时候,这种市场的运转状态,是非常接近充分竞争状态的。
但是缺点也同样明显。
缺乏引导的蓝海市场竞争会出现各种各样的混乱。
很容易出现劣币驱逐良币的情况,甚至可能出现模仿者干死原创的情况。
通常要经过长期的厮杀,等到有少数拥有绝对优势的厂商,联合起来勉强控制大部分市场的时候。
才有可能形成相对稳定的秩序和行业标准。
因为在市场处于混战状态的时候,厂商之间基本上是谁也不服谁的。
任何单个没有优势的厂商,想要主导行业内的标准的时候,都可能有其他厂商反对和捣乱。
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